而随着京西的持续快速发展，同时也是为了应对其他网购平台的竞争，最重要的是他们打造的自有物流平台实在太花钱，之前融资来的资金也逐渐不够用了，而柳河投资这边又三天两头问他们要不要资金。
因此双方最终在今年开始加强了接触。
上个月，经过双方的多次会谈，基本上达成了投资意向，不过具体的估值以及投资金额等还需要进行商谈。
为了获得大笔的投资，徐申学这个世界首富的支持，京西的高管团队亲自来到了深城和徐申学进行会面，并在会议上描绘京西未来的发展蓝图。
会议过后，徐申学又和京西老板简单吃了顿饭，聊了聊网购平台的事，
三天后，柳河投资正式和京西方面的达成了战略投资协议，柳河投资领投三亿美金，国内其他一些基金跟投一点三亿美金，为京西投入总计四点三亿美金的战略投资。
由此柳河投资也随之成为了京西的重要股东之一。
当然了，控股之类的是别指望了，这种战略投资更多的还是为了分享后续发展的收益。
这种自身出资三亿美金的投资案件，对于普通富豪而言估计得提心吊胆，非常重要，但是对于徐申学而言那只是小事。
实际上从头到尾，徐申学也就参加了那么一次融资会议，见了对方一面，吃了顿饭后就敲定下来了。
每年徐申学旗下的企业，都得收购或投资一大堆企业，几亿美金的金额其实都挺小的了。
真正巨额的投资，是那些动不动几十亿美金甚至上百亿美金的半导体领域的投资。
数天后徐申学出席的智云微电子深城生产基地第二期工程的投产仪式，就是属于这种重量级项目。
智云微电子的总经理丁成军亲自为徐申学介绍着这个项目
“我们智云微电子的深城生产基地项目，前期投资已经超过五十亿美金，核心为两座十二寸晶圆厂以及两座八寸晶圆厂，同时还有附带的封装工厂等配套工厂。”
“去年的时候，深城生产基地第一期工程已经完成，投产了一座八寸厂和一座十二寸厂，今年夏天的时候，第二座八寸厂也完工了，现在完工投产的的是第二座十二寸晶圆厂。”
“此外我们智云微电子还在该生产基地里规划了第三期工程，建设第三座十二寸晶圆厂，一座最先进的封装工厂等配套工厂，这个第三期工程已经正在进行前期的设备安装调试，估计明年夏天也就能完工投产了。”
“整个智云微电子的深城生产基地项目，总投资将会超过六十五亿美金。”
“此外今天投产的第二座十二寸晶圆厂，采用的是我们智云微电子里最新的二十八纳米工艺技术！”
“三期工程加起来，我们的这个生产基地，将会从之前的2+2，变成了3+2，一举成为成为了国内规模最大的半导体生产基地。”
徐申学一边听一边朝着前方的巨大厂房走去，他对这个工程还是比较重视的。
深城生产基地里的三座十二寸晶圆厂，和江城那边的两座十二寸晶圆厂不一样，江城那边的晶圆厂，主要是用于内存和闪存的生产。
而深城这边的芯片工厂，主要是用于逻辑芯片，也就是传统意义上说的CPU，GPU这些芯片的生产。
当然，不管是那种，徐申学都非常重视，而深城生产基地又刚好在附近，因此第一期工程投产的时候他当时就过来看了，如今第二期工程投产了他也过来了。
看着这个规模庞大的厂区，徐申学也是不由得感叹：“我们前后折腾了好几年，总算是在半导体制造领域里逐步跟上来了。”
丁成军也是道：“可不是，现在我们是要工厂有工厂，要工艺有工艺，不仅仅是国内第一，在全球范围里也能进入第一梯队了。”
如今的智云微电子，乃是国内唯一的一家拥有三十二纳米工艺的芯片代工厂，更不要说二十八纳米工艺了。
二十八纳米工艺，放在全球范围里都是属于当下最先进的工艺。
而在产能上，智云微电子已经拥有六座十二寸晶圆厂，用来生产各种先进芯片，同时还有五座八寸晶圆厂用来生产各类中低制程的各类芯片。
其中的十二寸晶圆厂的产能，占据了国内的百分之八十的十二寸晶圆产能！
妥妥的国内芯片代工领域的龙头企业，断层式领先国内的其他芯片代工企业。
其中已经大规模投产的三十二纳米工艺，已经用来生产智云集团旗下的各类芯片产品，包括手机SOC，电脑CPU，AI芯片，显卡等对先进工艺有极大要求的芯片。
同时也为其他芯片设计企业代工各类芯片，甚至还接受了不少海外的订单。
此外还有3DNAND的闪存工艺，也用来生产智云的闪存颗粒。
在内存领域里，智云微电子的工艺水平已经稳定生产三十纳米工艺，并且二十五纳米工艺的试生产也已经获得成功，正在开启二十五纳米工艺内存的量产计划。
在逻辑芯片以及储存芯片这两大核心领域里，智云微电子的技术水准都是能够跟上世界第一梯队的。
而这些在徐申学看来，都是自己这几年辛辛苦苦播种之后结出来的果实！
唯一让徐申学不满，乃至担忧的是，结出芯片果实的这些先进晶圆厂，使用的各类设备以及耗材，绝大部分都是进口货，非常容易被卡脖子。
比如典型设备光刻机，清一色的是荷兰ASML的DUV浸润式光刻机，目前也只有该公司生产的DUV浸润式光刻机，才能够满足三十二纳米/二十纳米工艺的芯片生产。
海湾科技研发出来的HL-ARF6508型DUV干式光刻机，可没办法干这个活！
哪怕采用双重曝光技术也非常困难，这里头还有着套刻精度的要求，海湾科技的第一台DUV干式光刻机，套刻精度只有八纳米，而根据海湾科技方面的技术研究，想要搞双重曝光的话，至少也得纳米的套刻精度，这样才能够通过双重曝光做出来四十纳米的工艺。
很可惜，目前的海湾科技的光刻机套刻精度，还达不到这个程度。
就算能达到，也没啥实际用处。
因为成本太高了！
现在的四十五纳米工艺芯片，都已经算是落后制程芯片了，你还用多重曝光技术大幅度增加成本，得亏死你。
当然，这说的是正常市场环境下……如果是不正常的市场环境下，也是可以这么做的。
因此海湾科技那边，也对这方面的技术进行一定的研究，算是作为一个技术储备的研发吧，实际上没啥卵用！
毕竟哪怕爆发战争之类的极端事件，以海湾科技的技术能力，也能够维护进口的一大堆DUV浸润式光刻机的运行。
而智云微电子进口的DUV浸润式光刻机，那可是相当多。
目前已经投入使用，以及算上已经到货，正在安装调试的DUV浸润式光刻机，总量有六十三台。
对应的是智云微电子之前规划的月产十五万片十二寸晶圆的产能。
此外还有大量DUV浸润式光刻机的订单，因为智云微电子还在修建更多的晶圆厂，正在持续提升产能，ASML那边每年都要给智云微电子交付二三十台DUV浸润式光刻机呢。
本章未完，点击下一页继续阅读。